Huawei patenteert EUV-lithografie voor chips kleiner dan 10 nm

 

Huawei heeft een component gepatenteerd om chips te kunnen fabriceren kleiner dan 10 nm. Het lost het probleem op van interferentiepatronen die door het ultraviolette licht worden gecreëerd en die anders de wafer ongelijkmatig zouden maken.
De fabrikant heeft het probleem opgelost in de laatste stap van het productieproces dat wordt veroorzaakt door kleine golflengten van extreem ultraviolet licht (EUV). Het patent beschrijft een reeks spiegels die de lichtstraal splitsen in meerdere sub-bund…

Read More 

​